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鹽霧老化試驗(yàn)箱廠家

更新時(shí)間:2022-04-27

訪問(wèn)量:966

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

生產(chǎn)地址:

簡(jiǎn)要描述:
鹽霧老化試驗(yàn)箱廠家,適用于零部件、電子元件、金屬材料的防護(hù)層以及工業(yè)產(chǎn)品的鹽霧腐蝕試驗(yàn)。
品牌豪恩分類鹽霧試驗(yàn)箱

一、工作原理

鹽霧老化試驗(yàn)箱廠家可以做的試驗(yàn)有四種:中性鹽霧試驗(yàn)(NSS)、銅加速乙酸鹽霧試驗(yàn)(CASS)、交變鹽霧試驗(yàn)、醋酸鹽霧試驗(yàn)(ASS試驗(yàn))。當(dāng)然,不同的試驗(yàn)不光是試驗(yàn)所需溶液不一樣,就連箱體的設(shè)計(jì)與結(jié)構(gòu)可能也有所不同。

1.中性鹽霧試驗(yàn)(NSS)試驗(yàn)箱的溫度要求在(35±2)℃,濕度大于95%,降霧量為1~2mL/80cm*h噴嘴壓力為78.5~137.3kPa(0.8~1.4kgf/cm2)。是在鹽霧試驗(yàn)箱內(nèi),將含有(5士0.5)%氯化鈉、pH值為6.5~7.2的鹽水通過(guò)噴霧裝置進(jìn)行噴霧,讓鹽霧沉降到待測(cè)試驗(yàn)件上,經(jīng)過(guò)一定時(shí)間觀察其表面腐蝕狀態(tài)。

2.銅加速乙酸鹽霧試驗(yàn)(CASS)就是在一般鹽霧試驗(yàn)的基礎(chǔ)上5%氯化鈉鹽水中加入2水氯化銅,使其濃度為0.26g/L,再用乙酸調(diào)節(jié)PH,使鹽霧收集液的PH值為3.1-3.3。(試驗(yàn)參考GB/T 10125人造氣氛腐蝕試驗(yàn))

3.交變鹽霧試驗(yàn)是一種綜合鹽霧試驗(yàn)(采用交變鹽霧試驗(yàn)箱實(shí)現(xiàn)。

4.醋酸鹽霧試驗(yàn)(ASS試驗(yàn))是在中性鹽霧試驗(yàn)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的。它是在5%氯化鈉溶液中加入一些冰醋酸。

二、鹽霧老化試驗(yàn)箱廠家主要技術(shù)參數(shù)

規(guī)格型號(hào)

HE-YW-60

HE-YW-90

HE-YW-120

HE-YW-160

HE-YW-200

容量

108升

270升

600升

960升

1200升

內(nèi)箱尺寸(MM)

600×450×400

900×600×500

1200×1000×500

1600×1000×600

2000×1000×600

外形尺寸(MM)

1070×600×1180

1410×880×1280

1900×1300×1400

2300×1300×1500

2700×1300×1500

鹽水桶容量

15升

25升

40升

40升

40升

使用電源

AC 220V 50HZ 15A

AC 220V 50HZ 15A

AC 220V 50HZ 20A

AC 220V 50HZ 20A

AC 220V 50HZ 30A

試驗(yàn)室溫度

中性鹽水試驗(yàn)方法(NSS ACSS):35℃±1℃;酸性鹽水試驗(yàn)方法(CASS):50℃±1℃

壓力桶溫度

中性鹽水試驗(yàn)方法(NSS ACSS):47℃±1℃;酸性鹽水試驗(yàn)方法(CASS):63℃±1℃

鹽水濃度

中性鹽水試驗(yàn)方法(NSS ACSS):氯化鈉濃度5%;

酸性鹽水試驗(yàn)方法(CASS):濃度5%氯化鈉溶液每升加0.26克氯化銅(CuC12.h20)

噴霧壓力

1.00±0.1kgf/cm2

鹽霧收取量

1~2mL/80cm21h(至少收集16小時(shí),取其平均值)

相對(duì)濕度

85%H.R以上

噴霧方式

連續(xù)噴霧或間斷式噴霧(可選)


操作方法

1、將鹽霧試驗(yàn)箱的內(nèi)部零件:塔式噴霧裝置、漏斗、圓棒、V型樣品架等裝好。

2、接上氣源,電源接通后,打開(kāi)電源開(kāi)關(guān)。

3、在壓力桶及箱體內(nèi)加水,兩個(gè)低水位燈滅掉后停止加水,密封槽處加水密封。

4、將純凈水與氯化鈉鹽以1:20的比例配好。將配好的溶液倒入試藥入口處(低鹽水的燈滅掉即可)。

5、所有燈滅掉后我們可以打開(kāi)操作、噴霧、計(jì)時(shí)開(kāi)關(guān),試驗(yàn)結(jié)束后方可打開(kāi)除霧開(kāi)關(guān)。

6、根據(jù)試驗(yàn)要求設(shè)備連續(xù)和周期兩種噴霧方式(連續(xù)噴霧時(shí)T1、T2表全部 設(shè)0,間歇噴霧時(shí)T1設(shè)置為工作時(shí)間,T2為休息時(shí)間)。

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